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化学气相沉积系统 PECVD 化学气相沉积生长炉 CVD设备

起批量
1

产品属性

品牌
科佳
型号
KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S
额定温度
1100
功率
5000
主要用途
可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜
最大电压
220
加工定制

郑州科佳电炉有限公司位于郑州电子商务产业园,公司是专业做各种高温加热设备的生产厂家,产品主要用于CVD石墨烯制备设备、荧光粉烧结设备、氧化锆生物陶瓷烧结、纳米材料制备、电池材料制备、陶瓷材料的微波烧结、稀有金属的区域提纯等研究发展方向。公司主营产品有箱式马弗炉,管式电阻炉,真空炉,气氛炉,CVD系统,牙科炉,升降炉,轨道炉等。

产品描述:

化学气相沉积PECVD系统是为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,环境温度在100-300℃,但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解、离解和离化,从而大大提高了反应物的活性,这些具有反应活性的中性物质很容易被吸附到较次温度的基本表面上,发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜,因此这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)。

技术参数:

管式炉系统

炉管尺寸

直径60mm

加热区长度

440mm(更多规格可按照客户要求定制)

正常工作温度

1100℃

最高工作温度

1200℃

加热元件掺钼合金加热丝
炉膛材质采用日本进口炉膛材料,不掉粉、材料保温性能好、反射率高、温场均衡,抗热涨冷缩能力强

控温方式

智能化30段可编程控制(用户可选配液晶触摸屏显示)

真空系统
高真空分子泵组,高真空复合真空计

前级泵2升每秒,分子泵600升每秒

采用KF25系列波纹管和真空挡板阀连接

质子流量计

高精度质量流量计可准确的控制气体流量

气体流量范围为0-500SCCm 误差为0.02%

出气真空压力表,内置气体混气系统,

不锈钢针阀计管道,标准双卡套接头 

射频电源系统

输出功率

50-500W最大可调±1%

RF频率

13.56MHz,稳定性±0.005%

噪声

≤55DB

冷却

风冷

输入功率

1KW  AC 220V

提供相关配件

气炼石英炉管、真空法兰、高温手套、坩埚钩、热电偶、防烫罩、刚玉坩埚、炉塞

电气认证CE认证
售后服务12个月质保、终身保修

佳电炉作为国内标准化、规模化生产各种试验电炉的专业公司,库存长期备有半成品,以便快捷、准确的把我们的产品送到客户的手中。特殊规格需要定制,交货期一般在20天左右.

咨询电话:           联系人:鲍婷



规格参数
型号 KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S   额定温度 1100  ( ℃)
功率 5000  (W) 主要用途 可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜  
最大电压 220  (V) 品牌 科佳  
加工定制 是   产品认证 CE认证  
包装参数
体积(m²)
产品重量(kg)
代理商供货
退换货规则说明
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